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A study of the effect of surface pretreatment on atomic layer deposited Al2O3 interface with GaN
相关领域
原子层沉积 分析化学(期刊) 材料科学 电介质 高-κ电介质 宽禁带半导体 光电子学 图层(电子) 化学 纳米技术 色谱法
网址
DOI
10.1117/12.2279313 doi
其它 期刊:
作者:Jianyi Gao; Wenwen Li; Srabanti Chowdhury; Saptarshi Mandal
出版日期:2017-08-23
求助人
哐哐哐 在 2025-10-10 17:51:57 发布自安徽,悬赏 20 积分
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