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  Effect of Nitrogen, Titanium, and Yttrium Doping on High-K Materials as Charge Storage Layer 相关领域
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期刊：Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 作者：Ziyang Cui; Dongxu Xin; Jinsu Park; Jaemin Kim; Khushabu Agrawal; et al 出版日期：2020-11-01 |
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