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 Extreme-ultraviolet Mo/Si multilayer mirrors deposited by radio-frequency-magnetron sputtering 射频磁控溅射沉积Mo/Si极紫外多层反射镜
相关领域
极端紫外线
光学
材料科学
溅射沉积
衍射
溅射
同步辐射
光电子学
薄膜
物理
纳米技术
激光器
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期刊：Applied Optics 作者：Claude Montcalm; Brian Sullivan; H. Pépin; J. A. Dobrowolski; Mark Sutton 出版日期：1994-04-01 |
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