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Improving FinFET Junctions and Contacts via Laser Annealing 通过激光退火改善FinFET结和接触
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平面的
限制
拓扑(电路)
物理
材料科学
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计算机图形学(图像)
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期刊: 作者:Oleg Gluschenkov; Yasir Sulehria; Shogo Mochizuki; Kevin Brew 出版日期:2023-06-08 |
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