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 Controllable formation of HfO2 thin film in 20-nm-thick lateral trenches with high aspect ratio up to 30 相关领域
材料科学
原子层沉积
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期刊：Nanotechnology 作者：Yingjie Fan; Yaming Wang; Haiteng Huang; Jingjing Zhang; Lihui Yu; et al 出版日期：2025-07-23 |
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(2025-6-4)
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