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Smoothing of reaction sintered silicon carbide using plasma assisted polishing
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网址
DOI
10.1016/j.cap.2012.04.004 doi
其它 期刊:Current Applied Physics
作者:Hui Deng; Kazuya Yamamura
出版日期:2012-04-08
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浮梦 在 2025-10-22 09:51:52 发布自北京,悬赏 10 积分
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