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  Band alignment of HfO2/multilayer MoS2 interface determined by x-ray photoelectron spectroscopy: Effect of CHF3 treatment 相关领域
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Xinke Liu; Jiazhu He; Qiang Liu; Dan Tang; Fang Jia; et al 出版日期：2015-09-07 |
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