| 标题 |
 A new technique for producing large-area as-deposited zero-stress LPCVD polysilicon films: the MultiPoly process 一种制备大面积沉积零应力LPCVD多晶硅薄膜的新技术：MultiPoly工艺
相关领域
材料科学
残余应力
化学气相沉积
复合材料
压力（语言学）
图层（电子）
沉积（地质）
极限抗拉强度
抗压强度
多晶硅耗尽效应
悬臂梁
光电子学
电气工程
晶体管
电压
语言学
生物
栅氧化层
工程类
哲学
古生物学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Microelectromechanical Systems 作者：Jie Yang; H. Kahn; Anqiang He; S.M. Phillips; A. H. Heuer 出版日期：2000-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
kk99123
小花排草
eric888
不安青牛
明晨
YifanWang
受伤冰真
闪闪雁兰
COSMAO
vchen0621
小二
EDSS
符文师
heavenhorse
热心市民小红花
小蘑菇
zchchem
不想干活
隐形雁玉
15356
皖公网安备34019202002308
