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H3PO4-based wet chemical etching for recovery of dry-etched GaN surfaces
H3PO4基湿法化学刻蚀用于干法刻蚀GaN表面的恢复
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期刊:Applied Surface Science 作者:Sabria Benrabah; Maxime Legallais; Pascal Besson; Simon Ruel; Laura Vauche; et al 出版日期:2021-12-01 |
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