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 MD simulation of chemically enhanced polishing of 6H-SiC in aqueous H2O2 H2O2溶液中6H-SiC化学强化抛光的分子动力学模拟
相关领域
化学机械平面化
抛光
雷亚克夫
材料科学
薄脆饼
水溶液
研磨
化学工程
磨料
分子动力学
过氧化氢
复合材料
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物理化学
化学
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计算化学
原子间势
工程类
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| 其它 |
期刊：Journal of Manufacturing Processes 作者：Shengyao Yang; Xuliang Li; Yitian Zhao; Md. Al-Amin; Lisbeth Grøndahl; et al 出版日期：2023-12-01 |
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