A low-pressure high-frequency plasma CVD technique for ZnO thin film fabrication using Zn micro powder + Ar mixture gas

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标题	A low-pressure high-frequency plasma CVD technique for ZnO thin film fabrication using Zn micro powder + Ar mixture gas
网址	https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2026.115310
DOI	10.1016/j.vacuum.2026.115310 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Wittawat Poonthong; Toshifumi Yuji; Yoshifumi Suzaki; Yasuhisa Oya; Narong Mungkung; Nat Kasayapanand 出版日期：2026
求助人	llll 在 2026-05-21 17:03:16 发布自湖北，悬赏 10 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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