Hybrid metal-organic clusters resist for next-generation high-NA EUV lithography

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标题	Hybrid metal-organic clusters resist for next-generation high-NA EUV lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.3091820
DOI	10.1117/12.3091820 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLIII 作者：Neha .; Manvendra Chauhan; Kumar Palit Palit; Ashutosh Joshi; Ranbir Singh; et al 出版日期：2026
求助人	樊珩在 2026-05-31 22:21:29 发布自上海，悬赏 20 积分
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