| 标题 |
 Atomic Layer Deposition on Particulate Materials from 1988 through 2023: A Quantitative Review of Technologies, Materials, and Applications 相关领域
原子层沉积
涂层
微粒
材料科学
沉积（地质）
平面的
图层（电子）
纳米技术
荧光粉
半导体
薄膜
原子层外延
特征（语言学）
领域（数学）
表征（材料科学）
化学工程
基质（水族馆）
发光
催化作用
曲面（拓扑）
工艺工程
原子力显微镜
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chemistry of Materials 作者：Peter M. Piechulla; Mingliang Chen; Aristeidis Goulas; Riikka L. Puurunen; J. Ruud van Ommen 出版日期：2025-12-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Theprisoners
无极微光
DW
Nole
dde
Aurora
v0id
xing_xing
null
潇洒的惋清
秋风
cdercder
学术文献互助
aajhajkahna
aaaa
DOC_XIONG
云天河
arniu2008
殷勤的紫槐
初景
皖公网安备34019202002308
