Design rule optimization for via layers of multiple patterning solution at 7nm technology node

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标题	Design rule optimization for via layers of multiple patterning solution at 7nm technology node 相关领域计算机科学互连过程（计算）进程窗口物理设计图层（电子）软件设计模式设计模式集成电路设计节点（物理）材料科学电路设计工程类嵌入式系统纳米技术计算机网络程序设计语言软件结构工程操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/12.2573157
DOI	10.1117/12.2573157 doi
其它	期刊：作者：Xiaojing Su; Yayi Wei; Lisong Dong; Libin Zhang; Yajuan Su; et al 出版日期：2020-09-20
求助人	啤酒人在 2026-04-10 09:56:53 发布自安徽，悬赏 20 积分
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