Intercalation-induced Schottky-to-Ohmic transition in MoSi₂N₄-TaSi₂N₄ vertical heterostructure

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标题	[高分] Intercalation-induced Schottky-to-Ohmic transition in MoSi₂N₄-TaSi₂N₄ vertical heterostructure
网址	https://doi.org/10.1117/12.3105868
DOI	10.1117/12.3105868 doi
其它	期刊：International Conference on Optoelectronic Materials and Electronic Information Engineering (OMEIE 2025) 作者：Mingxiang Li; Lei Ao; Zhihua Xiong; Zhongsheng Qian; Qiwin Wan 出版日期：2026
求助人	罗罗诺亚在 2026-03-19 15:35:52 发布自江西，悬赏 50 积分
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