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Review of Material Properties of Oxide Semiconductor Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition for Next-Generation 3D Dynamic Random-Access Memory Devices
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DOI
10.1021/acs.chemmater.3c02223 doi
其它 期刊:Chemistry of Materials
作者:Ae Rim Choi; Dong Hyun Lim; So‐Yeon Shin; Hye Joo Kang; Dohee Kim; et al
出版日期:2024-02-26
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唐逗仁儿 在 2026-08-07 16:22:58 发布自重庆,悬赏 10 积分
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