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Atomic Layer Deposition on Particulate Materials from 1988 through 2023: A Quantitative Review of Technologies, Materials, and Applications |
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期刊:Chemistry of Materials 作者:Peter M. Piechulla; Mingliang Chen; Aristeidis Goulas; Riikka L. Puurunen; J. Ruud van Ommen 出版日期:2025-12-22 |
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(2025-6-4)