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标题
In-situ temperature-dependent sheet resistance study of Cu films in oxygen ambient for heterogeneous integrations
相关领域
材料科学 电阻率和电导率 薄板电阻 透射电子显微镜 分析化学(期刊) 扫描电子显微镜 铜 扩散阻挡层 电阻和电导 化学工程 复合材料 冶金 纳米技术 图层(电子) 化学 工程类 电气工程 色谱法
网址
DOI
10.1088/1361-6528/ad1d13 doi
其它 期刊:Nanotechnology
作者:Vijay D. Chavan; Honggyun Kim; Kyeong-Keun Choi; Sung‐Kyu Kim; Deok‐kee Kim
出版日期:2024-01-10
求助人
开放思雁 在 2026-01-06 18:13:11 发布自河南,悬赏 10 积分
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