| 标题 |
 Extending area selective deposition of ruthenium onto 3D SiO2-Si multilayer stacks 相关领域
X射线光电子能谱
材料科学
无定形固体
结晶度
退火（玻璃）
硅
原子层沉积
化学工程
分析化学（期刊）
纳米技术
图层（电子）
光电子学
化学
结晶学
冶金
复合材料
色谱法
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Kartik Sondhi; Rahul Sharangpani; Roshan J. Tirukkonda; Joyeeta Nag; Xing-Cai Guo; et al 出版日期：2023-08-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
DIVINEDC
Enigma_GEB
rum
拆迁办禁言
cdercder
渡人舟
秋风
DW
无极微光
热切菩萨
Criminology34
极限001
Nole
abadd12
GingerF
科研狗
孙蓓泽
Juice
七听
祝风华
皖公网安备34019202002308
