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 Improved electrical performance and stability of top-gated indium–tin–zinc–oxide thin-film transistors via oxygen plasma treatment 氧等离子体处理提高顶栅氧化铟锡锌薄膜晶体管的电学性能和稳定性
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Jaemin Park; Zhenyuan Xiao; Shaocong Lv; Zhuocheng Yan; Jiawei Zhang; et al 出版日期：2025-10-28 |
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