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标题
Monolithically Integrated Bidirectional Gate ESD Protection Scheme of p-GaN Power HEMT by Dual-Gate Device Technology
基于双栅器件技术的p-GaN功率HEMT单片集成双向栅极ESD保护方案
相关领域
高电子迁移率晶体管 材料科学 光电子学 电气工程 功率(物理) 逻辑门 氮化镓 电子工程 工程类 晶体管 物理 电压 纳米技术 图层(电子) 量子力学
网址
DOI
10.1109/tpel.2024.3494833 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Power Electronics
作者:Yanfeng Ma; Sheng Li; Mingfei Li; Weihao Lu; Lixi Wang; et al
出版日期:2024-11-08
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大安吉 在 2025-12-06 14:12:34 发布自海南,悬赏 10 积分
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