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标题
Optimized hydrogen-supplying gate insulator for high-mobility indium oxide TFTs via atomic-level oxygen reactant engineering
相关领域
铟 原子氧 材料科学 薄膜晶体管 氧气 光电子学 氢 绝缘体（电） 氧化物 纳米技术 冶金 化学 图层（电子） 有机化学
网址
https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2025.179353
DOI
10.1016/j.jallcom.2025.179353 doi
其它 期刊：Journal of Alloys and Compounds
作者：Hwa Young Kim; Seong‐In Cho; Dong Yeob Shin; Kwun‐Bum Chung; Sang‐Hee Ko Park; et al
出版日期：2025-02-21
求助人
ZT 在 2026-01-09 12:45:45 发布自甘肃，悬赏 10 积分
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