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Ultra-fast etching of photoresist by reactive atmospheric-pressure thermal plasma jet with surface temperature measurement
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网址
https://doi.org/10.35848/1882-0786/ada374
AI链接 doaj.orgdoi.org
DOI
10.35848/1882-0786/ada374 doi
其它 期刊：Applied Physics Express
作者：Kyohei Matsumoto; Hibiki Kato; Jiawen Yu; Hiroaki Hanafusa; Seiichiro Higashi
出版日期：2024-12-26
求助人
隐形 在 2026-01-05 07:32:08 发布自安徽，悬赏 10 积分
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