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Enhancing the dry-etch durability of photoresist masks: A review of the main approaches
光刻胶
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干法蚀刻
材料科学
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蚀刻（微加工）
抵抗
光电子学
复合材料
图层（电子）
作者
С. В. Зеленцов,
N. V. Zelentsova,
A. N. Kolesov,
L. A. Bogatyreva,
I. A. Mashtakov
出处
期刊：
Russian Microelectronics
[Pleiades Publishing]
日期：2007-02-01
卷期号：36 (1): 40-48
被引量：5
标识
DOI：10.1134/s1063739707010052
摘要
A review is presented of the main approaches to the enhancement of photoresist-mask durability under dry etching. The physical and chemical processes involved are described.
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