Enhanced nanoimprint lithography productivity using solvent-based resists

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标题	Enhanced nanoimprint lithography productivity using solvent-based resists 使用溶剂型抗蚀剂提高纳米压印光刻生产率相关领域抵抗纳米压印光刻平版印刷术材料科学纳米技术纳米光刻生产力光电子学制作宏观经济学医学替代医学图层（电子）病理经济
网址	https://doi.org/10.1117/12.3051020
DOI	10.1117/12.3051020 doi
其它	期刊：作者：Toshiki Ito; Toshihiko Nishida; Keita Sakai; Mitsuru Hiura; Hideki Imamura; et al 出版日期：2025-05-06
求助人	火火在 2025-08-25 15:50:49 发布自印度，悬赏 20 积分
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