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标题
Enhanced nanoimprint lithography productivity using solvent-based resists
使用溶剂型抗蚀剂提高纳米压印光刻生产率
相关领域
抵抗 纳米压印光刻 平版印刷术 材料科学 纳米技术 纳米光刻 生产力 光电子学 制作 宏观经济学 医学 替代医学 图层（电子） 病理 经济
网址
https://doi.org/10.1117/12.3051020
DOI
10.1117/12.3051020 doi
其它 期刊：
作者：Toshiki Ito; Toshihiko Nishida; Keita Sakai; Mitsuru Hiura; Hideki Imamura; et al
出版日期：2025-05-06
求助人
火火 在 2025-08-25 15:50:49 发布自印度，悬赏 20 积分
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