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 Etch and deposition co-optimization: a pathway to enabling high aspect ratio 3D NAND Flash ONON channel hole patterning 相关领域
与非门
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期刊： 作者：Meihua Shen; John Hoang; Hao Chi; Danna Qian; George D. Papasouliotis; et al 出版日期：2021-02-19 |
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