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Oxygen migration impact on ferroelectric evolution in Hf0.5Zr0.5O2 devices |
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Chih-Yu Teng; Chia-Wei Hsu; Chia-Hua Chang; J.Y. Yang; Bi‐Hsuan Lin; et al 出版日期:2025-05-12 |
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