Application and advantage of RAFT polymerization in high-resolution lithography formulation

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标题	Application and advantage of RAFT polymerization in high-resolution lithography formulation
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3092948
DOI	10.1117/12.3092948 doi
其它	期刊：Ninth International Workshop on Advanced Patterning Solutions (IWAPS 2025) 作者：Xiang Dong; Jingqiang Wang; Yuanjian Sun 出版日期：2025-12-03
求助人	Domo 在 2026-08-19 15:07:14 发布自中国台湾，悬赏 20 积分
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