Effects of hydrogen plasma treatment on the physical and chemical properties of tin oxide thin films for ambipolar thin-film transistor applications

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标题	Effects of hydrogen plasma treatment on the physical and chemical properties of tin oxide thin films for ambipolar thin-film transistor applications
网址	https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2022.05.097
DOI	10.1016/j.ceramint.2022.05.097 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Kang-Hwan Bae; Seung-Hyun Lim; Kie Yatsu; Ick-Joon Park; Hyuck-In Kwon 出版日期：2022
求助人	笨笨听双在 2026-05-12 14:38:14 发布自江苏，悬赏 10 积分
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