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1.8 mΩ·cm2 vertical GaN-based trench metal–oxide–semiconductor field-effect transistors on a free-standing GaN substrate for 1.2-kV-class operation 相关领域
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期刊:Applied Physics Express 作者:Tohru Oka; Tsutomu Ina; Yukihisa Ueno; Junya Nishii 出版日期:2015-04-14 |
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