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 Oxygen defect engineering at TMOx (TM = Mn, Co, Fe, Ni, Cu, Zn)/TiO2 interfaces: A strategy for high-efficiency catalytic toluene degradation TMOx(TM=Mn，Co，Fe，Ni，Cu，Zn）/TiO2界面的氧缺陷工程：一种高效催化降解甲苯的策略
相关领域
材料科学
降级（电信）
催化作用
甲苯
氧气
化学工程
锌
冶金
X射线光电子能谱
有机化学
化学
计算机科学
电信
工程类
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Yaqi Wu; Jianhua Qian; Jinjuan Xing; Junhua Li; He Huang; et al 出版日期：2025-07-17 |
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