| 标题 |
 Oxygen defect engineering at TMOx (TM = Mn, Co, Fe, Ni, Cu, Zn)/TiO2 interfaces: A strategy for high-efficiency catalytic toluene degradation TMOx(TM=Mn，Co，Fe，Ni，Cu，Zn）/TiO2界面的氧缺陷工程：一种高效催化降解甲苯的策略
相关领域
材料科学
降级（电信）
催化作用
甲苯
氧气
化学工程
锌
冶金
X射线光电子能谱
有机化学
化学
计算机科学
电信
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Yaqi Wu; Jianhua Qian; Jinjuan Xing; Junhua Li; He Huang; et al 出版日期：2025-07-17 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
DW
无极微光
Nole
Kao
GingerF
学术文献互助
rrr
一百分
v0id
翟思宇
我能私信骂你吗
掐钰
柚子茶
Criminology34
xjiao
挖掘机
2589
dew
秋风
皖公网安备34019202002308
