Enhancement of remnant polarization in ferroelectric HfO2 thin films induced by mechanical uniaxial tensile strain after the crystallization process

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标题	Enhancement of remnant polarization in ferroelectric HfO2 thin films induced by mechanical uniaxial tensile strain after the crystallization process 相关领域材料科学铁电性极化（电化学）电容器结晶极限抗拉强度薄膜复合材料衍射光电子学电介质光学纳米技术电气工程电压化学物理化学物理工程类有机化学
网址	https://doi.org/10.35848/1882-0786/ad379a
DOI	10.35848/1882-0786/ad379a doi
其它	期刊：Applied Physics Express 作者：Tatsuya Inoue; Takashi Onaya; Koji Kita 出版日期：2024-03-25
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