Atomic Layer Deposition of Ru by Using a New Ru-Precursor

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标题	Atomic Layer Deposition of Ru by Using a New Ru-Precursor 用一种新的前驱体进行Ru原子层沉积相关领域钌原子层沉积薄脆饼沉积（地质）图层（电子）分析化学（期刊）杂质硅化学氧化钌催化作用纳米技术材料科学光电子学色谱法有机化学生物沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.1149/1.2204812
DOI	10.1149/1.2204812 doi
其它	期刊：ECS Transactions 作者：Jinhyung Lee; Yong Won Song; Kwangdong Lee; Youngmin Lee; Hyeok Kyu Jang 出版日期：2006-04-28
求助人	大胆的猫咪在 2025-12-08 16:53:17 发布自上海，悬赏 10 积分
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