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[求助补充材料]
  Enhancing the quality of homoepitaxial (−201) β-Ga2O3 thin film by MOCVD with in situ pulsed indium 原位脉冲铟MOCVD提高同向外延（−201）β-Ga2O3薄膜质量
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Yao Wang; Jiale Li; Tao Zhang; Wenkai Wu; Wenji Li; et al 出版日期：2024-02-12 |
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