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标题
Theoretical study of the influence of GaOx interfacial layer on the GaN/SiO2 interface property
GaOx界面层对GaN/SiO2界面性能影响的理论研究
相关领域
图层（电子） 材料科学 接口（物质） 光电子学 财产（哲学） 宽禁带半导体 纳米技术 复合材料 润湿 坐滴法 认识论 哲学
网址
https://doi.org/10.1063/5.0204285
AI链接 aip.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0204285 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Shuto Hattori; Atsushi Oshiyama; Kenji Shiraishi
出版日期：2024-05-01
求助人
曾经听筠 在 2025-12-03 20:33:28 发布自重庆，悬赏 10 积分
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