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标题
Improvement of the fabrication process for top-down GaN nanowires using contactless photo-assisted electrochemical etching
非接触光辅助电化学刻蚀自上而下GaN纳米线制备工艺的改进
相关领域
纳米线 制作 蚀刻（微加工） 材料科学 光电子学 纳米技术 过程（计算） 电化学 电极 化学 计算机科学 图层（电子） 替代医学 物理化学 病理 操作系统 医学
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/adb042
DOI
10.35848/1347-4065/adb042 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Hisahiro Furuuchi; Taketomo Sato; Junichi Motohisa
出版日期：2025-01-30
求助人
和谐的山灵 在 2025-12-03 21:31:35 发布自福建，悬赏 10 积分
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