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标题
Suppression of Thermally Induced Leakage of NiSi-Silicided Shallow Junctions by Pre-Silicide Fluorine Implantation
硅化前氟注入抑制NiSi硅化浅结热致泄漏
相关领域
材料科学 硅化物 泄漏（经济） 退火（玻璃） 离子注入 光电子学 热稳定性 晶体管 氧化物 硅 分析化学（期刊） 复合材料 化学工程 冶金 离子 化学 电气工程 电压 有机化学 经济 宏观经济学 工程类 色谱法
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.44.1673
DOI
10.1143/jjap.44.1673 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Masakatsu Tsuchiaki; K. Ohuchi; Akira Nishiyama
出版日期：2005-04-01
求助人
自由天空 在 2025-05-18 15:42:31 发布自湖北，悬赏 10 积分
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