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 Electrical stress-induced charge carrier generation/trapping related degradation of HfAlO/SiO2 and HfO2/SiO2 gate dielectric stacks HfAlO/SiO2和HfO2/SiO2栅极电介质堆叠的电应力诱导电荷载流子产生/俘获相关降解
相关领域
材料科学
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电容器
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光电子学
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Piyas Samanta; Chin-Lung Cheng; Yao‐Jen Lee; Mansun Chan 出版日期：2009-06-15 |
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