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 Pixel-based learning method for an optimized photomask in optical lithography 光学光刻中基于像素的优化光掩模学习方法
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Moongyu Jeong; Jae W. Hahn 出版日期：2017-11-15 |
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