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 Determination of the Etching Kinetics for the Hydrofluoric Acid/Silicon Dioxide System 氢氟酸/二氧化硅体系蚀刻动力学的测定
相关领域
氢氟酸
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：David J. Monk; David S. Soane; Roger T. Howe 出版日期：1993-08-01 |
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