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 Defect reduction of replacement metal gate aluminum chemical mechanical planarization at 28nm technology node 相关领域
化学机械平面化
材料科学
钝化
抛光
金属浇口
电偶腐蚀
腐蚀
泥浆
金属
冶金
铝
图层（电子）
刮擦
复合材料
栅氧化层
电气工程
晶体管
工程类
电压
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：H.K. Hsu; T.C. Tsai; C.W. Hsu; Welch Lin; R.P. Huang; et al 出版日期：2013-02-25 |
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