Selective molecular gas phase etching in layered high aspect-ratio nanostructures for semiconductor processing. I. Modeling framework and simulation

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标题	Selective molecular gas phase etching in layered high aspect-ratio nanostructures for semiconductor processing. I. Modeling framework and simulation
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00041...
DOI	10.1116/6.0004155 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Zach Zajo; David S. L. Mui; Ji Zhu; Mark Kawaguchi; Eric S. G. Shaqfeh 出版日期：2025-01-07
求助人	Mr_龙在天涯在 2026-10-13 16:28:45 发布自上海，悬赏 10 积分
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