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Preparation of N-vacancy-doped g-C3N4 with outstanding photocatalytic H2O2 production ability by dielectric barrier discharge plasma treatment
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DOI
10.1016/S1872-2067(18)63046-3 doi
求助人
yunianan 在 2026-03-29 11:01:10 发布自英国,悬赏 10 积分
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