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 Selective etching of SiN against SiO2 and poly-Si films in hydrofluoroethane chemistry with a mixture of CH2FCHF2, O2, and Ar 相关领域
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期刊：Applied Surface Science 作者：Shih‐Nan Hsiao; Kenji Ishikawa; Toshio Hayashi; Jiwei Ni; Takayoshi Tsutsumi; et al 出版日期：2020-11-22 |
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