| 标题 |
 MBMW 401 tool for 2nm and sub-2nm EUV masks 相关领域
极紫外光刻
计算机科学
计量学
平版印刷术
极端紫外线
稳健性（进化）
光学
电子束光刻
纳米光刻
埃
光学接近校正
制作
可靠性（半导体）
光刻
阴极射线
覆盖
渲染（计算机图形）
抵抗
半导体器件制造
梁（结构）
浸没式光刻
下一代光刻
电子工程
多重图案
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| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.3065985
doi
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| 其它 |
期刊：40th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2025) 作者：Johannes Leitner; Christoph Spengler; Peter Hudek; Hans Löschner; Elmar Platzgummer 出版日期：2025-09-23 |
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