| 标题 |
Progress of PFAS-free materials and resist for ArF immersion photolithography |
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| DOI |
10.1117/12.3089554
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| 其它 |
期刊: 作者:Yuzuru Kaneko; Takashi Masubuchi; Keito Hagiwara; Junya Kanda; Haowei Feng; et al 出版日期:2026-04-09 |
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(2025-6-4)