A review of plasma-induced damage and interface recovery in GaN-based materials etching processes

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标题	A review of plasma-induced damage and interface recovery in GaN-based materials etching processes
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S136980012...
DOI	10.1016/j.mssp.2026.110568 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：J. Hong; Jong Soon Park; Chan Ho Kim; W. Lim; J. Kim; et al 出版日期：2026-01-01
求助人	科研狗在 2026-08-18 11:25:55 发布自云南，悬赏 10 积分
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