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 Investigation of fluorocarbon plasma deposition from c‐C4F8 for use as passivation during deep silicon etching 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science and Technology 作者：C. Labelle; V. Donnelly; G. Bogart; R. Opila; A. Kornblit 出版日期：2004-11-01 |
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