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标题
Area selective deposition of tungsten and ruthenium using a tungsten precursor inhibitor
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.165129
DOI
10.1016/j.apsusc.2025.165129 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Bonwook Gu; Chi Thang Nguyen; Mingyu Lee; Sunghwan Jo; Ngoc Le Trinh; et al
出版日期：2026
求助人
ADChem_JH 在 2026-06-23 07:41:21 发布自安徽，悬赏 10 积分
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