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Trivalent lanthanum and ytterbium doped meso-silica/ceria abrasive systems toward chemical mechanical polishing (CMP) and ultraviolet irradiation-assisted photochemical mechanical polishing (PCMP) |
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期刊:Applied Surface Science 作者:Zihan Kou; Chao Wang; Wenjin Zhou; Ailian Chen; Yang Chen 出版日期:2024-02-20 |
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